中国、ASMLの先端半導体装置を入手した可能性－米が経営陣に懸念伝達 – Bloomberg

         

関係者によれば、ラトニック商務長官は、ASML経営幹部らとの最近の会合で、極端紫外線（EUV）リソグラフィー装置について懸念を表明した。EUVシステムは、台湾積体

関係者によれば、ラトニック商務長官は、ASML経営幹部らとの最近の会合で、極端紫外線（EUV）リソグラフィー装置について懸念を表明した。EUVシステムは、台湾積体 ...続きを確認する

 - 未分類

 - 

 - トップページへ戻る